Strain-engineering for improved tunneling in reconfigurable silicon nanowire transistors uri icon Tagungsband

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Überblick

Freigegeben

  • Ja

AutorInnen

  • Baldauf, Tim
  • Heinzig, André
  • Mikolajick, Thomas
  • Weber, Walter Michael
  • Trommer, Jens

Veröffentlichungszeitpunkt

  • 2016

Open-Access-Kennzeichnung

  • Closed Access

Peer Reviewed

  • Nein

Sprachen

  • englisch

Im Bibliotheksbestand

  • Ja Im Bibliotheksbestand

Forschung

Schlagwörter

  • CMOS
  • Junctions
  • Logic gates
  • Oxidation
  • RFET
  • SBFET
  • Schottky junction
  • Silicon
  • Silicon nanowire
  • Stress
  • TCAD
  • Transistors
  • Tunneling
  • deformation potential
  • reconfigurable logic
  • self-limited oxidation
  • simulation
  • strain

Identität

Internationale Standardbuchnummer (ISBN) 10

  • 146738609X

Anderes

Kuratierungs-Zielkategorie (intern)

  • Ja