Suppression of the corner effects in a 22 nm hybrid tri-gate/planar process uri icon Konferenz-Paper

Im Bibliotheksbestand

Überblick

Freigegeben

  • Ja

AutorInnen

  • Wei, Andy
  • Herrmann, Thomas
  • Flachowsky, Stefan
  • Illgen, Ralf
  • Höntschel, Jan
  • Horstmann, Manfred
  • Klix, Wilfried
  • Stenzel, Roland
  • Baldauf, Tim

Veröffentlichungszeitpunkt

  • 2011

Open-Access-Kennzeichnung

  • Closed Access

Peer Reviewed

  • Nein

Sprachen

  • deutsch

Im Bibliotheksbestand

  • Ja Im Bibliotheksbestand

Identität

Anderes

Kuratierungs-Zielkategorie (intern)

  • Ja